电镀技术

品析离子镀TiAIN 涂层工艺

发布时间:2012年05月31日

品析离子镀TiAIN 涂层工艺


一种用于海军航空发动机压气机叶片的离子镀TiAlN涂层,其特征在于离子TiAlN涂层工艺方法如下:

利用IPB30/30T型空心阴极离子镀膜机,以下TiAl合金为镀料,控制沉积参数,形成Al-(Ti,Al)N-TiN 无界面梯度涂层,TiAl 合金镀料中Al 原子百分比为20%~50%,沉积过程中基体温度为400~480℃,

沉积过程分为三个阶段:

    第一阶段,调整电子枪束流在180~220A,基体偏压为-100~150V,真空度,<0.01Pa,在工件表面沉积TiAl合金底层,沉积时间为1-2min;

    第二阶段,引入N2,真空度为0.15~0.4Pa,电子枪束流为280~320A,偏压-20~30V,沉积时间为10~20min;

    第三阶段,保持真空室中N2压力不变,电子枪束流增加到400~450A,偏压调节到-50V~60V,继续沉积60~80min,涂层厚度为6~8μm。