电镀技术

真空镀膜与溅射镀膜的区别

发布时间:2012年07月03日

真空镀膜与溅射镀膜的区别

    真空镀膜和溅射镀膜各有优点,应该依具产品和工艺来决定使用哪种。

    一般:真空镀膜速率快,重复性相对较差,薄膜的附着力相对较低,材料利用率高。

    溅射镀膜成膜速率相对慢,重复性好。薄膜的附着力大,材料利用率相对低。

    多弧溅射在靶材上施小电压大电流使材料离子化(带正电颗粒), 从而高速击向基片(负电)并沉积,形成致密膜坚硬膜。主要用于耐磨耐蚀膜。其缺点是正负电撞造成膜层不均匀,空穴、烧蚀。