电镀技术

电弧型离子镀装置的特性分析

发布时间:2012年07月19日

电弧型离子镀装置的特性分析

    本发明涉及电弧型等离子镀装置,其中通过使用电弧蒸发源的称作电弧离子镀方法,在基底表面上形成润滑性。硬度、装饰性等性能优越的薄膜,所述的基底例如是工具、机械零件、模具。外镀层部件等。特别是,本发明涉及一种能够形成在大面积内具有良好膜厚均匀性的高平滑度的薄膜的装置。

    已经公知具有下述特点的电弧型离子镀方法。在该方法中,通过真空放电,用电弧蒸发源熔化阴极,以产生含有阴极材料的等离子体,并且通过负偏压等将由该电弧蒸发源产生的该等离子体中的离子(在该说明书中指正离子)引导在基底上,以基底表面形成薄膜。该方法的特征是成膜1速度高,薄膜的粘合性能高等。