电镀技术

真空镀膜设备的小特点

发布时间:2012年09月28日

 

真空镀膜设备,真空电镀设备,真空镀膜机
真空镀膜设备的小特点
1、真空镀膜设备阴极采用隔离冷却装置,改变以往阴极磁钢因工作在循环水中不断吸附杂质而影响磁场强度和寿命。新方法使磁钢工作在真空环境,大大提高了阴极稳定性和寿命。
2、真空镀膜设备通过辅助5段供气,提高真空环境工艺气体分布均匀性,提高膜层质量; 
3、安装整体式模块化阴极屏蔽挡板,大大减少维修时间,降低维修成本。 
4、真空镀膜设备采用自主研发的倾斜式磁钢矩阵排列,扩大了阴极靶材表面气隙场范围,增大了靶材被刻蚀溅射的面积,提高靶材的利用率和均匀性。表面气隙场水平分量均匀性在±2%以内。
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2、真空镀膜设备通过辅助5段供气,提高真空环境工艺气体分布均匀性,提高膜层质量; 
3、安装整体式模块化阴极屏蔽挡板,大大减少维修时间,降低维修成本。 
4、真空镀膜设备采用自主研发的倾斜式磁钢矩阵排列,扩大了阴极靶材表面气隙场范围,增大了靶材被刻蚀溅射的面积,提高靶材的利用率和均匀性。表面气隙场水平分量均匀性在±2%以内。
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2、真空镀膜设备通过辅助5段供气,提高真空环境工艺气体分布均匀性,提高膜层质量; 
3、安装整体式模块化阴极屏蔽挡板,大大减少维修时间,降低维修成本。 
4、真空镀膜设备采用自主研发的倾斜式磁钢矩阵排列,扩大了阴极靶材表面气隙场范围,增大了靶材被刻蚀溅射的面积,提高靶材的利用率和均匀性。表面气隙场水平分量均匀性在±2%以内。
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2、真空镀膜设备通过辅助5段供气,提高真空环境工艺气体分布均匀性,提高膜层质量; 
3、安装整体式模块化阴极屏蔽挡板,大大减少维修时间,降低维修成本。 
4、真空镀膜设备采用自主研发的倾斜式磁钢矩阵排列,扩大了阴极靶材表面气隙场范围,增大了靶材被刻蚀溅射的面积,提高靶材的利用率和均匀性。表面气隙场水平分量均匀性在±2%以内。
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2、真空镀膜设备通过辅助5段供气,提高真空环境工艺气体分布均匀性,提高膜层质量; 
3、安装整体式模块化阴极屏蔽挡板,大大减少维修时间,降低维修成本。 
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3、安装整体式模块化阴极屏蔽挡板,大大减少维修时间,降低维修成本。 
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3、安装整体式模块化阴极屏蔽挡板,大大减少维修时间,降低维修成本。 
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2、真空镀膜设备通过辅助5段供气,提高真空环境工艺气体分布均匀性,提高膜层质量; 
3、安装整体式模块化阴极屏蔽挡板,大大减少维修时间,降低维修成本。 
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