电镀技术

真空镀膜机镀膜方法—蒸发镀膜

发布时间:2013年11月14日

                    真空镀膜机镀膜方法—蒸发镀膜
真空镀膜机镀膜是指在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜机镀膜方法有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀,在这里,真空镀膜设备厂家介绍蒸发镀膜这种镀膜方法。
蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜。现代已成为常用镀膜技术之一。
 蒸发源有三种类型:
 
①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质。电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;
 
②高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质;
 
③电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不低于2000[618-1])的材料,即用电子束轰击材料使其蒸发。
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